基本介紹
在真空中制備膜層，包括鍍制晶态的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。
蒸發鍍膜
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一。
濺射鍍膜
用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。濺射現象于1870年開始用于鍍膜技術，1930年以後由于提高了沉積速率而逐漸用于工業生産。
離子鍍
蒸發物質的分子被電子碰撞電離後以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。
參考書目
金原粲着，楊希光譯：《薄膜的基本技術》，科學出版社，北京，1982。（金原粲着：《薄膜の基本技》，京大學出版會，京，1976。）
光學材料
（純度：99.9%-99.9999%）
高純氧化物
一氧化矽、SiO，二氧化铪、HfO₂，二硼化铪，氯氧化铪，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化矽、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，五氧化三钛、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、Nb2O5，三氧化二鋁、Al2O3，三氧化二钪、Sc2O3，三氧化二铟、In2O3，二钛酸镨、Pr(TiO3)2，二氧化铈、CeO2，氧化鎂、MgO，三氧化鎢、WO3，氧化钐、Sm2O3，氧化钕、Nd2O3，氧化铋、Bi2O3，氧化镨、Pr6O11，氧化銻、Sb2O3，氧化釩、V2O5，氧化鎳、NiO，氧化鋅、ZnO，氧化鐵、Fe2O3，氧化鉻、Cr2O3，氧化銅、CuO等。
氟化鎂、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化鉀、KF，氟化锶、SrF3，氟化钐、SmF3，氟化鈉、NaF，氟化鋇、BaF2，氟化铈、CeF3，氟化鉛等。
高純金屬類
高純鋁,高純鋁絲，高純鋁粒，高純鋁片，高純鋁柱，高純銅，高純銅絲，高純銅片，高純銅粒，高純鉻，高純鉻粒，高純鉻粉，高純鉻塊，鉻條，高純钴，高純钴粒，高純金，高純金絲，高純金片，高純金粒，高純銀，高純銀絲，高純銀粒，高純銀片，高純鉑，高純鉑絲，高純铪，高純铪粉，高純铪絲，高純铪粒，高純鎢，高純鎢粒，高純钼，高純钼粒，高純钼片，高純矽，高純單晶矽，高純多晶矽，高純鍺，高純鍺粒，高純錳，高純錳粒，高純钴，高純钴粒，高純铌，高純錫，高純錫粒，高純錫絲，高純鎢，高純鎢粒，高純鋅，高純鋅粒，高純釩，高純釩粒，高純鐵，高純鐵粒，高純鐵粉，高純钛，高純钛片，高純钛粒，海面钛,高純锆，高純锆絲，海綿锆,碘化锆,高純锆粒，高純锆塊，高純碲，高純碲粒，高純鍺，高純鎳，高純鎳絲，高純鎳片，高純鎳柱，高純钽，高純钽片，高純钽絲，高純钽粒，高純鎳鉻絲，高純鎳鉻粒，高純镧,高純镨,高純钆,高純铈,高純铽,高純钬,高純钇,高純镱,高純铥,高純铼,高純铑,高純钯,高純銥等.
混合料
氧化锆氧化钛混合料，氧化锆氧化钽混合料，氧化钛氧化钽混合料，氧化锆氧化钇混合料，氧化钛氧化铌混合料，氧化锆氧化鋁混合料，氧化鎂氧化鋁混合料，氧化铟氧化錫混合料，氧化錫氧化铟混合料，氟化铈氟化鈣混合料等混合料
其他化合物
钛酸鋇，BaTiO3，钛酸镨，PrTiO3，钛酸锶，SrTiO3，钛酸镧，LaTiO3，硫化鋅，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化鋅，ZnSe，硫化镉，硫化钼，硫化銅，二矽化钼。
輔料
钼片，钼舟、钽片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。
濺射靶材
（純度：99.9%-99.999%）
金屬靶材
碳靶（C靶）、鎳靶（Ni靶）、钛靶（Ti靶）、鋅靶（Zn靶）、鉻靶（Cr靶）、鎂靶（Mg靶）、铌靶（Nb靶）、錫靶（Sn靶）、鋁靶（Al靶）、铟靶（In靶）、鐵靶（Fe靶）、锆鋁靶（ZrAl靶）、钛鋁靶（TiAl靶）、锆靶（Zr靶）、矽靶（Si靶）、銅靶（Cu靶）、钽靶（Ta靶）、鍺靶（Ge靶）、銀靶（Ag靶）、钴靶（Co靶）、金靶（Au靶）、钆靶（Gd靶）、镧靶（La靶）、钇靶（Y靶）、铈靶（Ce靶）、铪靶（Hf靶）、钼靶（Mo靶）、鐵鎳靶（FeNi靶）、V靶、W靶、不鏽鋼靶、鎳鐵靶、鐵钴靶、鎳鉻靶、銅铟镓靶、鋁矽靶NiCr靶等金屬靶材。
陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶，氧化鎂靶、氧化鐵靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二氧化矽靶、一氧化矽靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二钽靶，五氧化二铌靶、氟化鎂靶、氟化钇靶、氟化鎂靶，硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化矽靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化矽靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸鋇靶、钛酸镧靶、氧化鎳靶等陶瓷濺射靶材。
鍍膜技術
真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段将固體表面塗複一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高産品質量、延長産品壽命、節約能源和獲得顯着技術經濟效益的作用。
