人物評價
楊成剛，男，彜族，1965年10月生，貴州大方縣人，1989年畢業于貴州大學物理系半導體物理與器件專業，學士學位，高級工程師，PMP。在校期間，連年被評為校級三好學生。畢業後，分配到中國振華電子工業公司國營第四四三三廠工作，主要從事半導體集成電路和混合集成電路方面的科研工作。進廠後，他緻力于光刻工藝的研究，采用直接光刻工藝代替機械掩模蒸發工藝，進行分步光刻選擇刻蝕來形成薄膜無源網絡，其最小間距或帶寬可達10um左右，使集成度大大提高，适用于大批量生産，為後來的高尖端新産品的研制和生産奠定了基礎。曾參與該廠軍工器件FX0032超高速FET運算放大器、FX0002電流放大器、FX8510功率運算放大器、FH8048對數放大器、FX3290BiMOS雙電壓比較器等的研制，并取得成功。發表的代表性論文有：《半導體熱敏電阻的溫敏特性在對數放大器中的應用》《陽極氧化鋁工藝在薄膜混合集成電路中的應用》《Ni－Cr薄膜電阻在對數放大器中的應用》、《FX3290BiMOS雙電壓比較器的研制》《鋁導帶薄膜混合集成電路工藝的研究》等。1995年被貴州省國防工業工會和貴州省國防科技工業辦公室評為“1994年度企業走向市場立功競賽先進個人”榮譽。所承擔的科研項目《100MHZ高頻寬帶集成運算放大器》于2000年榮獲貴州省科技進步三等獎。截至2012年，在集成電路領域擁有多個發明專利和實用新型專利。在企業管理、流程管理、品質管理、研發管理、項目管理、微電子技術等領域具有一定的專長。
代表性論文
《半導體熱敏電阻的溫敏特性在對數放大器中的應用》《陽極氧化鋁工藝在薄膜混合集成電路中的應用》《Ni－Cr薄膜電阻在對數放大器中的應用》、《FX3290BiMOS雙電壓比較器的研制》《鋁導帶薄膜混合集成電路工藝的研究》等。
獲獎榮譽
1995年被貴州省國防工業工會和貴州省國防科技工業辦公室評為“1994年度企業走向市場立功競賽先進個人”榮譽。
所承擔的科研項目《100MHZ高頻寬帶集成運算放大器》于2000年榮獲貴州省科技進步三等獎。
截至2012年，在集成電路領域擁有多個發明專利和實用新型專利。在企業管理、流程管理、品質管理、研發管理、項目管理、微電子技術等領域具有一定的專長。
