徐靜平

徐靜平

華中科技大學光學與電子信息學院教授
徐靜平,博士,二級教授,博導。于1982年、1984年和1993年在華中理工大學(現華中科技大學)分别獲得學士、碩士和博士學位。1995年至1999年在香港大學進行博士後研究。近些年,作為訪問學者,多次赴香港大學和香港理工大學開展合作研究。[1]自2002年開始,一直從事Si、Ge、SiC、GaAs、InGaAs和MoS2 MOS器件高k栅介質及其界面特性的研究、Si基懸浮栅和電荷陷阱型非揮發性存儲器的研究以及高k栅介質MOSFET器件物理模型、結構設計及制備工藝。迄今在微電子學領域共發表學術論文200餘篇,包括ACS Applied materials & interfaces、IEEE EDL、IEEE TED、APL等。
    中文名:徐靜平 民族:漢 出生地: 畢業院校:華中理工大學 學位/學曆: 職業:教師 專業方向: 職務: 學術代表作: 主要成就:

人物經曆

1978.2-1982.1華中工學院固體電子學系本科畢業,獲工學學士學位;

1982.2-1984.9華中工學院固體電子學系碩士畢業,獲工學碩士學位;

1989.9-1993.11華中理工大學固體電子學系博士畢業,獲工學博士學位;

1984.9-1986.10華中工學院固體電子學系助教;

1986.11-1994.5華中理工大學固體電子學系講師;

1994.6-2000.1華中理工大學固體電子學系副教授;

1995.12-1997.6香港大學電機電子工程學系資深研究員;

1997.7-1999.6香港大學電機電子工程學系博士後研究員;

2000.2-2012.6華中科技大學電子科學與技術系教授,博導;

2012.6-華中科技大學光學與電子信息學院教授,博導。

研究方向

先進的小尺寸CMOS集成器件原理、結構、工藝及建模/模拟(The principle, structure, process and modeling/simulation of advanced small-size CMOS devices);

二維層狀半導體材料及納電子/光電子器件

新型非揮發性半導體存儲器

主講課程

光學與電子信息。

主要成就

科研成就

近幾年來(2001-2008),作為訪問教授每年赴香港大學從事2-3個月的合作研究。九四年晉升為副教授,二000年二月晉升為教授,二00二年六月被評聘為博士生導師。自一九八四年以來,一直從事微電子器件、物理、工藝以及集成技術方面的教學與研究工作。作為負責人主持國家自然科學基金項目兩項,徐靜平教授已完成國家自然科學基金項目三項、教育部骨幹教師基金一項、湖北省自然科學基金兩項以及國際合作項目三項。

率先在國際上提出了采用N2O和NO直接熱氧化法制備SiC MOS器件栅氧化物以及采用NH3進行表面鈍化處理的先進技術,獲得了SiC/SiO2界面質量和器件可靠性的極大改進;提出并采用濕氮或濕NO退火技術制備高k栅介質Ge基MOS器件,獲得好的高k介質/Ge界面特性。有關成果在IEEE EDL、Appl Phys Lett.等重要國際期刊上發表,多次被同行專家引用。在國際國内重要期刊雜志上共發表學術論文80餘篇(其中國際期刊40餘篇),被SCI收錄38篇,EI收錄35篇。

國家自然科學基金,湖北省自然科學基金評委;Microelectronics Reliability、物理學報、中國物理(英文);半導體學報審稿人。

獲獎情況

2019湖北省自然科學獎三等獎

2014Nature Index: 2014 China: 對學校自然指數的突出貢獻

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